多晶硅、單晶硅生產廢水處理工藝
來源：南京慧邦科技研究(jiu)所 閱讀：3392 更(geng)新時間：2009-01-18 14:391. 廢水來源
多晶硅、單晶硅生產廢水在電子半導體工業生產過程產生的廢水中具有代表性。
2. 廢水組成及特性
在生產過程中需要對含硅原料用氫氟酸、鉻酸、硝酸、鹽酸等強酸進行適當的腐蝕，因此產生大量酸性廢水，通常采用石灰中和法處理。
3. 出水水質
本所工藝能達到的標準為污水排放標準GB8978-1996中的一級標準，
即： CODcr≤100mg/l，BOD5≤20mg/l，SS≤70mg/l，PH:6-9等。
4.工藝流程
對酸性生產(chan)廢水(shui)(shui)廢水(shui)(shui)處理(li)的(de)沉淀(dian)效率、水(shui)(shui)質調節(jie)、污泥(ni)處理(li)等幾個方面的(de)考(kao)慮，以達到(dao)排(pai)放(fang)標準目(mu)的(de)，典型工藝(yi)流程如(ru)下：
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5、工程實例
洛(luo)陽(yang)單晶硅(gui)有(you)限公司 2×30m3/h酸性(xing)廢水處理工(gong)程
