多功能濕法設備(涂布| 蝕刻|顯影|沖洗|烘干全套服務)
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人氣：1233 發布時間：2009-06-04 15:30 關鍵詞：其它 產品型號： 應用領域：水處理 產品價格：面議 想了解更多產品詳情，請 |
蝕刻/顯(xian)影/清洗(xi)全套(tao)系統（etch, develop & cleaning processes）
多功能(neng)濕法設備技術參數：
• 型號8 系列(lie)為
• 數碼控(kong)制處理(li)器(qi)
• 天然結實的(de)聚(ju)丙烯材料NPP，并帶連鎖門
• 清晰(xi)可視的ECTFE圓頂蓋(gai)子
• 特氟隆材(cai)質(zhi)的控制(zhi)閥
• 可調(diao)節的氮氣擴散(san)處理裝置
• 可(ke)調降(jiang)流式(shi)排氣及排水（含
• 電動雙絕緣(yuan)和超載保護(hu)
• 安全門(men)聯鎖（不允(yun)許(xu)旋(xuan)轉和(he)試劑滴膠過(guo)程中打開處理腔）
• 安全門(men)閉鎖（需要特別按鍵才能打開處(chu)理(li)腔）
• 安(an)全門鎖（當(dang)程序正在運行或運行結束后轉頭仍在旋轉時(shi)，處(chu)理腔無法打開。）
多功能濕法設備主要特點
• 不銹(xiu)鋼壓力容器
• 雙(shuang)重保護的ECTFE包裹不銹鋼壓(ya)力容器（通(tong)常為單(dan)一
• 多重輸(shu)出(chu)注射器
• 英制或公制尺寸非真(zhen)空晶圓轉(zhuan)頭
• 帶(dai)微型支架的非真空轉頭
• 真空轉頭
• 真空(kong)轉(zhuan)接(jie)器（為小至
• 還可提供(gong)其他一些轉頭，可根據樣品或具體的尺(chi)寸，包括厚度和(he)所有公差要求(qiu)來自定義。
儀器介紹
蝕刻(ke)/顯影/清(qing)洗全套系統是(shi)一種靈(ling)活，安(an)全和實惠(hui)的研(yan)發工(gong)具，蝕刻/顯影/清(qing)洗(xi)全套系(xi)統EDC 系列常被應用在以溶劑和水為基礎的處理過(guo)程：蝕刻-清洗-干燥，開發(fa)-沖洗-干(gan)燥，以及利用溶劑和水的(de)清洗。其旋轉涂(tu)敷機部(bu)分，具有多種板載滴膠(jiao)閥的(de)零孔隙度特富龍流體路徑等特點，干(gan)凈的(de)ECTFE圓頂蓋使用戶能夠實時觀察過(guo)程的安全運行，記事(shi)是每一單步處(chu)理過(guo)程模式也可以(yi)（我們獨有的性(xing)能）。
蝕刻/顯影(ying)/清洗(xi)全(quan)套EDC 系統具(ju)有可編程閥(fa)，它可以(yi)使單注射器試(shi)劑(ji)滴膠按照蝕刻，開發和清洗應用(yong)的要求重(zhong)復(fu)進行，如沖(chong)洗（通常(chang)是去(qu)離子(zi)水(shui)或溶劑(ji)），然后干燥（通常(chang)是氮氣）等最后的處(chu)理步驟。蝕刻/顯(xian)影/清洗全(quan)套系(xi)統采用(yong)此序貫閥門(men)技術的(de)晶(jing)圓片和管(guan)道在(zai)完全(quan)干燥的(de)環(huan)境中開通和關(guan)閉處理過程。隔離(li)和獨立的(de)給水器可處在(zai)靜態(tai)的(de)位置還(huan)可以蓋(gai)內調節。蝕刻/顯影/清洗全(quan)套(tao)系統還有可選擇(ze)的動態(tai)線性或(huo)徑向滴膠的特(te)性。雖然在這些過程(cheng)中常采用非真空(kong)轉頭，蝕刻(ke)/顯(xian)影/清洗全套系統仍然具備真空下壓能力。當邊緣控制型或真空型轉頭附上稱底時，門插銷、門鎖和電氣聯鎖為此提供多重保護，也包括大容積的廢液和廢氣排出口。
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