EDI超純水設備
二、EDI進水條件:
水源:反滲透RD產水,電導率≤20μ.s/cm
PH值5℃-38℃
進水壓力0.2-0.6mpa
硬度:小于0.5ppm
三、應用場合:
1、半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路
2、超純材料和超純化學試劑光導纖維、光盤
3、汽車、家電表面電泳漆清洗用水
4、精密產品實驗室和中試車間
四、水質標準:
1、根據客戶要求可達到以下標準:
2、符合美國ASTM標準,電子部超純水水質標準(18MQ-CM, 15MQ.CM, 2MQ-CM和0. 5MQ-CM,四級)
五、工藝流程:
預處理一一雙級反滲透一一EDI一一拋光一一終端后處理