As（Ⅲ）的毒性(xing)(xing)、溶(rong)解性(xing)(xing)、流動性(xing)(xing)都(dou)(dou)遠大于(yu)As（Ⅴ），且As（Ⅲ）通常以分(fen)子(zi)形(xing)式存在，故各種工藝對As（Ⅲ）的去(qu)(qu)除率(lv)都(dou)(dou)遠低于(yu)As（Ⅴ）。因(yin)此，在去(qu)(qu)除以As（Ⅲ）為(wei)主的地下水中(zhong)的砷時通常需(xu)要將As（Ⅲ）預氧(yang)化為(wei)As（Ⅴ）。

As （Ⅲ ）-As （Ⅴ ） 系統的(de)(de)氧(yang)化(hua)(hua)還原電位(wei)為(wei)0.560 V，因(yin)(yin)此，曝(pu)氣(qi)或加入純氧(yang)都不(bu)能(neng)迅速(su)有(you)(you)效(xiao)地(di)將(jiang)As（Ⅲ）預氧(yang)化(hua)(hua)為(wei)As（Ⅴ），而(er)需要添加化(hua)(hua)學(xue)氧(yang)化(hua)(hua)劑(ji)(ji)。主(zhu)要的(de)(de)化(hua)(hua)學(xue)氧(yang)化(hua)(hua)劑(ji)(ji)有(you)(you)O2和臭(chou)氧(yang)、氯(lv)氣(qi)、H2O2、Fenton試劑(ji)(ji)、UV/自(zi)然(ran)光體(ti)系、TiO2 /UV 等(deng)。M. J. Kim 等(deng)發(fa)現：臭(chou)氧(yang)和H2O2的(de)(de)氧(yang)化(hua)(hua)電位(wei)過(guo)高，水中(zhong)的(de)(de)天(tian)然(ran)有(you)(you)機物(wu)(wu)（NOM）會通過(guo)捕獲(huo)·OH 而(er)極大地(di)減緩氧(yang)化(hua)(hua)反應(ying)的(de)(de)速(su)率，因(yin)(yin)此臭(chou)氧(yang)不(bu)適(shi)用于受(shou)有(you)(you)機污染嚴重的(de)(de)水體(ti)。M.V. Krishna 等(deng)指出，Fenton 試劑(ji)(ji)、UV/自(zi)然(ran)光體(ti)系、TiO2 /UV 氧(yang)化(hua)(hua)可(ke)以(yi)很(hen)好(hao)地(di)氧(yang)化(hua)(hua)水中(zhong)的(de)(de)As（Ⅲ），但(dan)需要較高的(de)(de)能(neng)量， 對(dui)于小(xiao)型的(de)(de)污水處(chu)理不(bu)經濟。P. Frank 等(deng)研究表明，在(zai)氯(lv)氣(qi)氧(yang)化(hua)(hua)As（Ⅲ）的(de)(de)同時，氯(lv)氣(qi)會與水中(zhong)的(de)(de)天(tian)然(ran)有(you)(you)機物(wu)(wu)形成氯(lv)化(hua)(hua)副產(chan)物(wu)(wu)， 可(ke)能(neng)對(dui)環境(jing)產(chan)生危害。

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