濕式脫硫除塵技術在應用中尚需注意和解決的問題
(一)腐蝕(shi)是(shi)濕式脫(tuo)硫除塵(chen)技術在應用(yong)中常(chang)見的一個問題。常(chang)常(chang)發生在除塵(chen)器煙氣入口處干濕交(jiao)替部分(fen)、凈(jing)化氣體的出口、設備內部氣流改(gai)變(bian)方向之處以(yi)及管道(dao)的腐蝕(shi)。
濕式脫(tuo)硫除塵(chen)技術系統內的(de)腐(fu)蝕環境是十(shi)分(fen)復(fu)雜的(de),它與多(duo)種因(yin)素有關,如:液體的(de)溫(wen)度、PH值(zhi)、氯離子濃度、煤種、燃燒(shao)情況等,并受到運動塵(chen)粒(li)的(de)沖刷,而導(dao)致(zhi)系統過早遭到破壞(huai)。為了控制(zhi)腐(fu)蝕,探索(suo)符(fu)合我(wo)國國情的(de)防腐(fu)防磨(mo)新路子,曾(ceng)開展(zhan)過相應(ying)的(de)試(shi)驗研(yan)究,現(xian)將結果(guo)介紹如下:
(1)選(xuan)擇了A3鋼、18—8型(xing)(xing)不銹鋼、09Cu低合金鋼、改(gai)性高(gao)硅鑄(zhu)鐵(tie)(STSIR—15Cu)、NiCr 20—2高(gao)鎳(nie)奧氏(shi)體鑄(zhu)鐵(tie)、普通(tong)灰鑄(zhu)鐵(tie)、低合金耐蝕(shi)鑄(zhu)鐵(tie)(NSHT86)共七種金屬進行了模擬脫硫(liu)除塵(chen)洗(xi)滌液環境下的全浸蝕(shi)試驗,試驗結果表(biao)明:18—8型(xing)(xing)不銹鋼和STIR—15Cu改(gai)性高(gao)硅鑄(zhu)鐵(tie)的化學穩定性最好,但在不同濃度(du)硫(liu)酸(suan)溶液中特別是有氯離子存在時,18—8型(xing)(xing)不銹鋼腐蝕(shi)率很高(gao),而STSIR— 15Cu改(gai)性高(gao)硅鑄(zhu)鐵(tie)卻很穩定。應此高(gao)硅鑄(zhu)鐵(tie)更適合于脫硫(liu)除塵(chen)系統腐蝕(shi)嚴重的部位。
(2)選擇了氯磺化(hua)聚乙烯涂(tu)層(ceng)(ceng)、環氧瀝青(qing)涂(tu)層(ceng)(ceng)、玻璃鱗片(pian)(pian)涂(tu)層(ceng)(ceng)和聚苯硫醚(mi)(PPS)涂(tu)層(ceng)(ceng)共四種涂(tu)料進行掛片(pian)(pian)全(quan)浸(jin)腐蝕(shi)(shi)試驗(yan),結果表(biao)明(ming):在(zai)全(quan)浸(jin)液(ye)PH值等于,CL—為(wei)(wei)250PPm、SO4- - 為(wei)(wei)1500PPm、溫度為(wei)(wei)80—95℃時(shi),浸(jin)液(ye)8~14天后外表(biao)面產生小(xiao)泡,膜下發生腐蝕(shi)(shi),部分(fen)涂(tu)層(ceng)(ceng)脫落。玻璃鱗片(pian)(pian)與PPS涂(tu)層(ceng)(ceng)的(de)腐蝕(shi)(shi)率(lv)相比較,以PPS 涂(tu)層(ceng)(ceng)性(xing)能為(wei)(wei)優,但(dan)這種涂(tu)層(ceng)(ceng)需在(zai)較高溫度下,給施工帶來一(yi)定困難,而(er)玻璃鱗片(pian)(pian)的(de)防腐性(xing)能雖然較PPS略有遜(xun)色,但(dan)可在(zai)室溫下固(gu)化(hua),彌補了PPS涂(tu)層(ceng)(ceng)的(de)不足。
(3)選擇了氯丁(ding)橡(xiang)(xiang)膠(jiao)和高硅(gui)(gui)耐(nai)酸(suan)橡(xiang)(xiang)膠(jiao)在浸液(ye)環境中試驗(yan)結果表明:兩(liang)種(zhong)橡(xiang)(xiang)膠(jiao)均有(you)良(liang)好的耐(nai)腐蝕性(xing)能(neng),高硅(gui)(gui)耐(nai)酸(suan)橡(xiang)(xiang)膠(jiao)又優(you)于氯丁(ding)橡(xiang)(xiang)膠(jiao),但粘(zhan)接強(qiang)度均不(bu)理想(xiang),在70—90℃條(tiao)件下(xia),試驗(yan)10天(tian)后(hou),粘(zhan)接強(qiang)度基本上(shang)下(xia)降到零(ling)。
(4)對非(fei)金屬材料中(zhong)的(de)(de)花(hua)崗(gang)巖和陶瓷的(de)(de)耐蝕(shi)耐磨(mo)性能試驗(yan)表明:它們防腐(fu)耐磨(mo)性能良好,其平均(jun)腐(fu)蝕(shi)的(de)(de)速率(lv)為(wei)18—8型不(bu)銹鋼(gang)的(de)(de)1/25,為(wei)A3鋼(gang)的(de)(de)1/104。
上述試驗結果,為濕式脫硫(liu)除塵系統各部(bu)位的(de)(de)合理(li)選材提供了(le)一定的(de)(de)依據(ju)。經受高溫、腐蝕(shi)、磨損(sun)較快的(de)(de)部(bu)位可考(kao)慮(lv)采(cai)用麻石(shi)、陶瓷或改性(xing)高硅(gui)鑄鐵(tie),經受中低溫和腐蝕(shi)、磨損(sun)不甚嚴重的(de)(de)部(bu)位,可采(cai)用防(fang)腐防(fang)磨涂料的(de)(de)表面(mian)防(fang)護處理(li)。
(二)注意水(shui)(shui)的(de)合理利(li)用。濕(shi)式脫(tuo)硫(liu)(liu)除(chu)塵系(xi)統中(zhong)提倡將鍋(guo)爐(lu)房的(de)所(suo)有廢水(shui)(shui)(包括水(shui)(shui)力沖渣(zha)和(he)脫(tuo)硫(liu)(liu)除(chu)塵廢水(shui)(shui)以及(ji)鍋(guo)爐(lu)排污水(shui)(shui)、水(shui)(shui)處(chu)理設備反洗水(shui)(shui)、風機軸(zhou)承的(de)冷(leng)卻水(shui)(shui)及(ji)其他廢水(shui)(shui))全部(bu)流入沉淀(dian)池(chi),經(jing)灰(hui)水(shui)(shui)分離后(hou)作為沖渣(zha)和(he)脫(tuo)硫(liu)(liu)除(chu)塵用水(shui)(shui)。這不但可節約大(da)量(liang)新(xin)水(shui)(shui),同時可防(fang)止水(shui)(shui)體的(de)二次(ci)污染。
(三)煙(yan)氣(qi)(qi)帶(dai)水(shui)是濕(shi)式脫(tuo)硫(liu)除(chu)塵器中最常見的(de)(de)(de)共性問(wen)題。這(zhe)是由(you)于脫(tuo)硫(liu)除(chu)塵器中煙(yan)氣(qi)(qi)與(yu)水(shui)接觸后,氣(qi)(qi)液未(wei)能得到(dao)很好分離而(er)造成的(de)(de)(de)一(yi)種現象。煙(yan)氣(qi)(qi)帶(dai)水(shui)會導致煙(yan)道腐蝕(shi),引風(feng)機葉輪粘灰,嚴重時發生風(feng)機震動(dong)。一(yi)般控制設備(bei)煙(yan)氣(qi)(qi)帶(dai)水(shui)的(de)(de)(de)措施有(you)三個:(1)是在設備(bei)設計(ji)時盡(jin)可能選(xuan)擇較(jiao)低(di)的(de)(de)(de)煙(yan)氣(qi)(qi)上升速(su)度;(2)是設備(bei)頂部距布水(shui)處要(yao)有(you)一(yi)定的(de)(de)(de)高度;(3)必(bi)要(yao)時需裝設脫(tuo)水(shui)效率較(jiao)高的(de)(de)(de)脫(tuo)水(shui)器。
(四)濕式(shi)脫(tuo)(tuo)硫除塵技(ji)術的發(fa)展和(he)應(ying)用,其實質是在(zai)傳統的濕式(shi)除塵技(ji)術的基礎上(shang),開發(fa)它的脫(tuo)(tuo)硫功能(neng)。針對工業鍋爐量大(da)(da)面廣、技(ji)術管理水(shui)平參差(cha)不齊,又受(shou)(shou)到(dao)經濟(ji)承(cheng)受(shou)(shou)能(neng)力(li)的限制(zhi),因(yin)此(ci)濕式(shi)脫(tuo)(tuo)硫除塵技(ji)術的推(tui)廣應(ying)用,重點應(ying)考慮在(zai)較大(da)(da)容量的鍋爐房和(he)自(zi)備電廠的鍋爐上(shang)應(ying)用,同時(shi)在(zai)技(ji)術性能(neng)上(shang)不要盲(mang)目追求高的脫(tuo)(tuo)硫效(xiao)率,而(er)應(ying)通(tong)過技(ji)術經濟(ji)分(fen)析,以花(hua)費(fei)最(zui)小的代價(jia)獲取(qu)最(zui)大(da)(da)的環(huan)境效(xiao)果(guo)為目標。

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