光化學離子(zi)設備(bei)除臭原理

光(guang)化(hua)(hua)學離(li)子除(chu)(chu)臭(chou)(chou)(chou)工藝(yi)是一(yi)種安全可(ke)靠的(de)(de)處理(li)方法，除(chu)(chu)臭(chou)(chou)(chou)效率高。其(qi)原理(li)為離(li)子輻(fu)(fu)射直接(jie)活(huo)化(hua)(hua)臭(chou)(chou)(chou)氣分(fen)(fen)(fen)子發(fa)生(sheng)分(fen)(fen)(fen)解(jie)(jie)(jie)(jie)的(de)(de)直接(jie)反應(ying)與輻(fu)(fu)射活(huo)化(hua)(hua)其(qi)它氣體(ti)分(fen)(fen)(fen)子再(zai)分(fen)(fen)(fen)解(jie)(jie)(jie)(jie)臭(chou)(chou)(chou)氣分(fen)(fen)(fen)子的(de)(de)間接(jie)反應(ying)相結(jie)合的(de)(de)一(yi)種高級氧化(hua)(hua)技(ji)術(shu)，綜合利用(yong)了高強輻(fu)(fu)照(zhao)場(chang)離(li)子對惡(e)臭(chou)(chou)(chou)物(wu)(wu)(wu)(wu)質(zhi)(zhi)的(de)(de)破壞(huai)作用(yong)和(he)(he)氧對惡(e)臭(chou)(chou)(chou)物(wu)(wu)(wu)(wu)質(zhi)(zhi)的(de)(de)氧化(hua)(hua)去除(chu)(chu)作用(yong)來去除(chu)(chu)惡(e)臭(chou)(chou)(chou)氣體(ti)中硫(liu)化(hua)(hua)氫、氨、甲硫(liu)醇等VOC(揮(hui)發(fa)性(xing)有(you)機物(wu)(wu)(wu)(wu))，并(bing)利用(yong)了水與氧在強輻(fu)(fu)照(zhao)下分(fen)(fen)(fen)解(jie)(jie)(jie)(jie)所(suo)產(chan)生(sheng)的(de)(de)活(huo)潑的(de)(de)次(ci)生(sheng)氧化(hua)(hua)劑(OH自由基)來氧化(hua)(hua)分(fen)(fen)(fen)解(jie)(jie)(jie)(jie)惡(e)臭(chou)(chou)(chou)氣體(ti)，改變(bian)臭(chou)(chou)(chou)氣分(fen)(fen)(fen)子的(de)(de)物(wu)(wu)(wu)(wu)化(hua)(hua)特性(xing)，最終污染物(wu)(wu)(wu)(wu)質(zhi)(zhi)被活(huo)性(xing)氧分(fen)(fen)(fen)解(jie)(jie)(jie)(jie)成CO2、水和(he)(he)其(qi)他小分(fen)(fen)(fen)子化(hua)(hua)合物(wu)(wu)(wu)(wu)以達到除(chu)(chu)臭(chou)(chou)(chou)目的(de)(de)。高強輻(fu)(fu)射場(chang)和(he)(he)氧一(yi)道，存在一(yi)個(ge)協同作用(yong)，這種協同作用(yong)使(shi)該技(ji)術(shu)對惡(e)臭(chou)(chou)(chou)去除(chu)(chu)臭(chou)(chou)(chou)的(de)(de)速率得(de)到7至9個(ge)數(shu)量級的(de)(de)增加(jia)，即(ji)反應(ying)速度增加(jia)千萬(wan)至十億倍。整個(ge)除(chu)(chu)臭(chou)(chou)(chou)過程(cheng)中受(shou)外界影響少，所(suo)有(you)的(de)(de)產(chan)物(wu)(wu)(wu)(wu)對人體(ti)及空氣無影響，不產(chan)生(sheng)二次(ci)污染物(wu)(wu)(wu)(wu)。

光(guang)化(hua)學離子(zi)降解硫(liu)化(hua)氫、氨、甲硫(liu)醇

1、 硫化氫

硫化(hua)氫的光化(hua)學反應(ying)如下

O3+hv→O2+?O

?O+H2O→2?OH

?O+O2→O3

H2S+O3+hv→S2-+H2O+O2

2、 氨

氨(an)同樣可以(yi)在光(guang)化學離子有(you)害氣體(ti)處(chu)理設備中得到(dao)較好的(de)(de)(de)去除，發(fa)生初級(ji)光(guang)化學離子反應后的(de)(de)(de)分子或者自由基吸收輻射后繼(ji)續發(fa)生化學變(bian)化，產生的(de)(de)(de)產物能夠進一(yi)步參與次(ci)級(ji)化學過程。氨(an)的(de)(de)(de)光(guang)降解涉及以(yi)下(xia)反應：

(1)觸(chu)發反應

O3+hv→O2+?O

O2+hv→?O +?O

NH3+hv→?NH+2?H

O3+OH-→?HO2 +?O2-

?HO2→?O2-+H+

(2)傳遞過程

?O+H2O→2?OH

?O+O2→O3

?O2-+O3→?O3-+O2

?O3-+H+→??HO3

2?NH→N2+2?H

(3)終止反應

2?NH+?O→N2+H2O

3、 甲硫醇

甲硫(liu)醇的(de)光化(hua)學(xue)離子反應和硫(liu)化(hua)氫的(de)類似(si)，同(tong)樣是因(yin)為HS-結構型式的(de)破壞而(er)失去臭味。

O3+hv→O2+?O

?O+H2O→2?OH

?O+O2→O3

HS-+O3+hv→S2-+?OH +O2

光化學離子設備技術(shu)特點

1. 光(guang)化學(xue)技術是一種經濟有效(xiao)(xiao)的(de)實(shi)用技術：通常處理的(de)惡臭氣體具有量大、濃度(du)低的(de)特點，極適(shi)合光(guang)化學(xue)反(fan)應這一低耗(hao)高效(xiao)(xiao)的(de)處理技術。

2. 反(fan)應速(su)度快，除臭效果優良(liang)：輻照場(chang)和氧存在(zai)著一個(ge)協同作用，試驗(yan)表(biao)明這種協同作用使該(gai)技術對(dui)(dui)惡臭去除的速(su)率得到7至9個(ge)數(shu)量級的增(zeng)加，這樣設備的體積小，占地和空間(jian)小，尤其對(dui)(dui)于(yu)改造，增(zeng)設的情況。

3. 模塊(kuai)化的產品構造，可以靈活(huo)搭配使用，適合臭氣源分塊(kuai)、分期獨(du)立處(chu)理。

4. 設備運行穩(wen)定：設備內部無高溫高壓等(deng)特殊部件，耐腐蝕，運行安(an)全穩(wen)定，開啟(qi)后(hou)無需(xu)特別的保養管(guan)理。

5. 設備(bei)的維護(hu)工作(zuo)量小：光/氧反應過程受外部環境影響甚小，除臭效(xiao)果可以較持續(xu)穩定，管路維護(hu)工作(zuo)簡單。

6. 設備風阻小，僅有250Pa左右，運行費用(yong)低，操作(zuo)簡單(dan)方(fang)便。

7. 設備(bei)的核心(xin)部件(jian)--反(fan)射管采用(yong)頂級品質的進口光(guang)源，可穩(wen)定、高效(xiao)的輸(shu)出反(fan)應所需的短波光(guang)子能(neng)量，使用(yong)壽命長。

8. 設備可設定就地手動控制、PLC自動控制;設定設備的正常運行(xing)、經濟運行(xing)模式;提供(gong)遠程傳遞運行(xing)信息(xi)與故障等(deng)信號。

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