半導體芯片廠超純水
來源：上海漢華水處理工程有限公司 閱(yue)讀(du)：2832 更新(xin)時間：2008-12-01 15:05| 詳細信息 | |||||
| 項目名稱 | 半導體芯片廠超純水 | ||||
| 建設地點 | 建設起始時間 | 建(jian)設結束(shu)時間 | |||
| 建設性質 | 新建 | 工程投資 | 廢水性質 | ||
| 處理規模 | 進水水質(zhi) | 出水水質(zhi) | |||
| 處理工藝 | 運行費(fei)用 | 承包范圍 | |||
工(gong)程說明
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半導體芯片廠超純水 TOC<10ppb 顆粒(li)度（PARTICLE）達0.5um≤200PCS/L 二(er)氧化硅SiO2<5ppb 電(dian)阻率≥18MΩ.cm(25℃) 采用高純度PVDF管路 |
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工程圖片
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